GaiaMicro-G系列顯微高光譜成像系統是將推掃型高光譜相機與顯微鏡結合，構成顯微高光譜系統的主體，再借助顯微鏡的光路系統、不同倍率的物鏡（可見）、不同倍率的反射物鏡（紅外）以及二維電控掃描平臺來實現的。

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更新時間：2024-05-20

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GaiaMicro-G系列顯微高光譜成像系統

原理介紹：

GaiaMicro-G系列顯微高光譜成像系統是將推掃型高光譜相機與顯微鏡結合，構成顯微高光譜系統的主體，再借助顯微鏡的光路系統、不同倍率的物鏡（可見）、不同倍率的反射物鏡（紅外）以及二維電控掃描平臺來實現的。

可見近紅外顯微系統采用透射式的光路結構，在不同放大倍率物鏡下，可以清楚的觀察、采集到相應的顯微高光譜數據，系統采用的是二維平移機構，X軸為圖像掃描軸，Y軸為調焦軸，實現自動曝光、自動對焦等流程。

近紅外顯微系統采用半透半反射式光路結構，大功率溴鎢燈輸出光源能滿足光譜響應范圍，系統采用的方案：高光譜相機靜止不動，通過控制二維平移機構的掃描軸完成圖像的采集，通過特殊設計的光路結構，可以實現全透、半透半反模式的光路調整，再通過目鏡來觀察和手動調整焦距完成整個系統的焦距調試。

優勢描述：

1、自動調焦、自動曝光、自動匹配掃描速度（顯微-可見近紅外系統）

2、反射率校準、均勻性校準、區域校準等

3、二維整體精密電控平移機構

4、可見近紅外顯微系統，可實現反射和透射式的高光譜成像，可利用GaiaField內置掃描結構帶動光譜成像系統來完成，也可以借助Image-λ-V10/V10E系列相機和電控二維掃描機構來實現

5、近紅外顯微系統，反射式顯微高光譜成像系統借助Image-λ-N17E系列相機和電控二維掃描機構來實現

6、高空間分辨率和光譜分辨率

顯微高光譜系統主要技術參數：

型號	GaiaMicro-G -V10-LU		GaiaMicro-G -V10E-AZ4	GaiaMicro-G -N17E		GaiaMicro-G -N17E-HR
光譜范圍	400-1000nm		400-1000nm	900-1700nm		900-1700nm
光譜分辨率	3.5nm		2.8nm	5nm		5nm
數值孔徑	F/2.8		F/2.4	F/2.0		F/2.0
狹縫尺寸	30um* 9.6mm		30um* 14.2mm	30um* 14.2mm		30um* 14.2mm
探測器	CCD		SCMOS	InGaAs		InGaAs
像素數（空間維*光譜維）	1392*1040		2048*2048	320*256		640*512
光譜通道數		256(有效通道240)			512(有效通道360)
數據輸出	14 bits		16 bits	14 bits		14 bits
連接方式	USB 2.0		USB3.0	USB2.0/ Gige		USB2.0/ Gige
物鏡	平場無限遠長工作距消色差金相物鏡（5x、10x、20x、50x) 選配：100x			反射式物鏡10X、40X 選配：20X、30X
顯微系統（標配金相顯微系統，透反射測試光路）	無限遠色差校正光學系統10X目鏡30°傾斜，無限遠鉸鏈三通觀察筒，瞳距調節：54mm~75mm，單邊視度調節：±5屈光度，兩檔分光比R:T=100：0或50：50 物鏡轉換器：內定位五孔轉換器
注：其它品牌如奧林巴斯、蔡司的生物、熒光、金相顯微鏡均可進行高光譜相機搭載，具體可與我司銷售人員。

反射物鏡：

反射物鏡參數：